НАСТОЛЬНАЯ УСТАНОВКА МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ C156TS

Производитель: ТехноИнфо

Система напыления металлов C156TS с турбомолекулярным насосом предназначена для напыления тонких пленки металлов (Au, Ag, Pt, Cr и др.) на поверхность образца методом магнетронного распыления с целью исследования методом электронной микроскопии и получения изображений высокого качества.

Золотое и платиновое напыления в большинстве случаев используются для исследований биологических образцов в высоком разрешении, в то время как углеродное покрытие более применимо для пробоподготовки твердых материалов, таких как металлы или минералы.

Комплектация:

  • базовый блок с управляющей электроникой;
  • магнетрон;
  • вакуумная система с турбомолекулярным насосом;
  • предметный столик Ø100 мм с вращением;
  • большая камера Ø156х150 мм из боросиликатного стекла;
  • сенсорный экран управления 7″;
  • программное обеспечение на русском языке;
  • книга «рецептов» напыления;
  • стартовый набор расходных материалов.

 

Доступно для предзаказа

Характеристики

Страна
ДисплейГрафический сенсорный экран 7”
Электропитание220 В, 50 Гц
Вес22 кг
Производительность насоса90 л/с
Габаритные размеры (Д)х(Г)х(В)450х300х400 мм
Вакуумная системаПолностью автоматическая, турбомолекулярный насос
Количество сохраняемых в памяти пользовательских программ обработки поверхности>1000 шт
Держатели образцовСтандартный держатель
Максимальная скорость вращения столика20 об./мин
Максимальное давление газа в камере во время процесса обработки1,1 мбар
Диаметр столика для образцов100 мм
Высота вакуумной камеры150 мм
Внутренний диаметр вакуумной камеры156 мм
Материал вакуумной камерыБоросиликатное, прозрачное бесцветное стекло
​Максимальный ток100 мА
​Тип испарителяМагнетрон постоянного тока
​Материалы напыленияМеталлы

Описание

Особенности:

  • Напыляемыми материалами в числе прочих могут быть золото, платина, палладий, углерод и др;
  • Система отвечает современным требованиям подготовки образцов;
  • Нанесения покрытия из проводящих материалов позволяет избежать скопления заряда на образце в процессе исследования, который существенно снижает качество получаемого изображения;
  • Различные техники покрытия: нанесение тонких пленок металлов на поверхность образца методом магнетронного распыления, а также углерод методом термического резистивного импульсного испарения.

Характеристики

Страна
ДисплейГрафический сенсорный экран 7”
Электропитание220 В, 50 Гц
Вес22 кг
Производительность насоса90 л/с
Габаритные размеры (Д)х(Г)х(В)450х300х400 мм
Вакуумная системаПолностью автоматическая, турбомолекулярный насос
Количество сохраняемых в памяти пользовательских программ обработки поверхности>1000 шт
Держатели образцовСтандартный держатель
Максимальная скорость вращения столика20 об./мин
Максимальное давление газа в камере во время процесса обработки1,1 мбар
Диаметр столика для образцов100 мм
Высота вакуумной камеры150 мм
Внутренний диаметр вакуумной камеры156 мм
Материал вакуумной камерыБоросиликатное, прозрачное бесцветное стекло
​Максимальный ток100 мА
​Тип испарителяМагнетрон постоянного тока
​Материалы напыленияМеталлы

Описание

Особенности:

  • Напыляемыми материалами в числе прочих могут быть золото, платина, палладий, углерод и др;
  • Система отвечает современным требованиям подготовки образцов;
  • Нанесения покрытия из проводящих материалов позволяет избежать скопления заряда на образце в процессе исследования, который существенно снижает качество получаемого изображения;
  • Различные техники покрытия: нанесение тонких пленок металлов на поверхность образца методом магнетронного распыления, а также углерод методом термического резистивного импульсного испарения.