НАСТОЛЬНАЯ УСТАНОВКА МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ C156TS
Система напыления металлов C156TS с турбомолекулярным насосом предназначена для напыления тонких пленки металлов (Au, Ag, Pt, Cr и др.) на поверхность образца методом магнетронного распыления с целью исследования методом электронной микроскопии и получения изображений высокого качества.
Золотое и платиновое напыления в большинстве случаев используются для исследований биологических образцов в высоком разрешении, в то время как углеродное покрытие более применимо для пробоподготовки твердых материалов, таких как металлы или минералы.
Комплектация:
- базовый блок с управляющей электроникой;
- магнетрон;
- вакуумная система с турбомолекулярным насосом;
- предметный столик Ø100 мм с вращением;
- большая камера Ø156х150 мм из боросиликатного стекла;
- сенсорный экран управления 7″;
- программное обеспечение на русском языке;
- книга «рецептов» напыления;
- стартовый набор расходных материалов.
Доступно для предзаказа
Характеристики
| Страна | Россия |
|---|---|
| Дисплей | Графический сенсорный экран 7” |
| Электропитание | 220 В, 50 Гц |
| Вес | 22 кг |
| Производительность насоса | 90 л/с |
| Габаритные размеры (Д)х(Г)х(В) | 450х300х400 мм |
| Вакуумная система | Полностью автоматическая, турбомолекулярный насос |
| Количество сохраняемых в памяти пользовательских программ обработки поверхности | >1000 шт |
| Держатели образцов | Стандартный держатель |
| Максимальная скорость вращения столика | 20 об./мин |
| Максимальное давление газа в камере во время процесса обработки | 1,1 мбар |
| Диаметр столика для образцов | 100 мм |
| Высота вакуумной камеры | 150 мм |
| Внутренний диаметр вакуумной камеры | 156 мм |
| Материал вакуумной камеры | Боросиликатное, прозрачное бесцветное стекло |
| Максимальный ток | 100 мА |
| Тип испарителя | Магнетрон постоянного тока |
| Материалы напыления | Металлы |
Описание
Особенности:
- Напыляемыми материалами в числе прочих могут быть золото, платина, палладий, углерод и др;
- Система отвечает современным требованиям подготовки образцов;
- Нанесения покрытия из проводящих материалов позволяет избежать скопления заряда на образце в процессе исследования, который существенно снижает качество получаемого изображения;
- Различные техники покрытия: нанесение тонких пленок металлов на поверхность образца методом магнетронного распыления, а также углерод методом термического резистивного импульсного испарения.
Характеристики
| Страна | Россия |
|---|---|
| Дисплей | Графический сенсорный экран 7” |
| Электропитание | 220 В, 50 Гц |
| Вес | 22 кг |
| Производительность насоса | 90 л/с |
| Габаритные размеры (Д)х(Г)х(В) | 450х300х400 мм |
| Вакуумная система | Полностью автоматическая, турбомолекулярный насос |
| Количество сохраняемых в памяти пользовательских программ обработки поверхности | >1000 шт |
| Держатели образцов | Стандартный держатель |
| Максимальная скорость вращения столика | 20 об./мин |
| Максимальное давление газа в камере во время процесса обработки | 1,1 мбар |
| Диаметр столика для образцов | 100 мм |
| Высота вакуумной камеры | 150 мм |
| Внутренний диаметр вакуумной камеры | 156 мм |
| Материал вакуумной камеры | Боросиликатное, прозрачное бесцветное стекло |
| Максимальный ток | 100 мА |
| Тип испарителя | Магнетрон постоянного тока |
| Материалы напыления | Металлы |
Описание
Особенности:
- Напыляемыми материалами в числе прочих могут быть золото, платина, палладий, углерод и др;
- Система отвечает современным требованиям подготовки образцов;
- Нанесения покрытия из проводящих материалов позволяет избежать скопления заряда на образце в процессе исследования, который существенно снижает качество получаемого изображения;
- Различные техники покрытия: нанесение тонких пленок металлов на поверхность образца методом магнетронного распыления, а также углерод методом термического резистивного импульсного испарения.
