Вакуумная горизонтальная печь для отжига полупроводниковых пластин и других образцов
Печь для отжига полупроводниковых пластин и других образцов — это вакуумная горизонтальная печь с рабочей температурой до 1150 °C для термической обработки материалов в контролируемой среде.
Основные особенности:
- рабочая температура до 1 150 °C и предельная до 1 200 °C;
- точность контроля температуры ±1 °C;
- молекулярный насос и форвакуумная система для работы в глубоком вакууме;
- сенсорный экран 7″ True Color с отображением температурной кривой;
- сохранение до 15 температурных программ по 30 сегментов.
Доступно для предзаказа
Характеристики
| Рабочая температура | до 1 150 °C |
|---|---|
| Предельная температура | 1 200 °C |
| Точность контроля температуры | ±1 °C |
| Эффективный объем камеры | Φ200×200 мм |
| Общий объем | 6 л |
| Скорость нагрева | до 20 °C/мин |
| Предельное давление | 3,0×10⁻⁴ Па |
| Вакуумная система | молекулярный насос + форвакуумный насос |
| Дисплей | 7″ сенсорный True Color |
| Питание | 220 В, 50 Гц |
| Мощность | 3,5 кВт |
Описание
Печь для отжига полупроводниковых пластин и других образцов — это вакуумная горизонтальная печь для термической обработки материалов в контролируемой атмосфере и при точном управлении температурой. Модель предназначена для процессов отжига в производстве полупроводников, а также для работы с различными образцами, где важно снизить внутренние дефекты материала, улучшить электрические свойства и обеспечить стабильность термического цикла. Печь оснащена вакуумной системой с молекулярным насосом, сенсорным экраном 7″ True Color, программируемым нагревом и возможностью сохранять до 15 температурных кривых по 30 сегментов каждая. Рабочая температура достигает 1 150 °C, предельная — 1 200 °C. За счет точности контроля температуры ±1 °C модель подходит для задач, где критичны воспроизводимость и стабильность процесса.
Сфера применения: отжиг полупроводниковых пластин; термическая обработка образцов в производстве полупроводников; лабораторные и опытно-технологические работы; исследования материалов, требующие точного температурного контроля; процессы в вакууме и контролируемой газовой среде; работа с кварцевыми трубами и пластинами.
Ключевые преимущества модели:
- рабочая температура до 1150 °C — подходит для высокотемпературного отжига;
- точность контроля температуры ±1 °C — стабильность и воспроизводимость процесса;
- вакуумная система с молекулярным насосом — для работы в глубоком вакууме;
- программирование до 15 температурных кривых по 30 сегментов — гибкая настройка режимов;
- сенсорный экран 7″ True Color — удобное управление и визуализация температурной кривой.
Характеристики
| Рабочая температура | до 1 150 °C |
|---|---|
| Предельная температура | 1 200 °C |
| Точность контроля температуры | ±1 °C |
| Эффективный объем камеры | Φ200×200 мм |
| Общий объем | 6 л |
| Скорость нагрева | до 20 °C/мин |
| Предельное давление | 3,0×10⁻⁴ Па |
| Вакуумная система | молекулярный насос + форвакуумный насос |
| Дисплей | 7″ сенсорный True Color |
| Питание | 220 В, 50 Гц |
| Мощность | 3,5 кВт |
Описание
Печь для отжига полупроводниковых пластин и других образцов — это вакуумная горизонтальная печь для термической обработки материалов в контролируемой атмосфере и при точном управлении температурой. Модель предназначена для процессов отжига в производстве полупроводников, а также для работы с различными образцами, где важно снизить внутренние дефекты материала, улучшить электрические свойства и обеспечить стабильность термического цикла. Печь оснащена вакуумной системой с молекулярным насосом, сенсорным экраном 7″ True Color, программируемым нагревом и возможностью сохранять до 15 температурных кривых по 30 сегментов каждая. Рабочая температура достигает 1 150 °C, предельная — 1 200 °C. За счет точности контроля температуры ±1 °C модель подходит для задач, где критичны воспроизводимость и стабильность процесса.
Сфера применения: отжиг полупроводниковых пластин; термическая обработка образцов в производстве полупроводников; лабораторные и опытно-технологические работы; исследования материалов, требующие точного температурного контроля; процессы в вакууме и контролируемой газовой среде; работа с кварцевыми трубами и пластинами.
Ключевые преимущества модели:
- рабочая температура до 1150 °C — подходит для высокотемпературного отжига;
- точность контроля температуры ±1 °C — стабильность и воспроизводимость процесса;
- вакуумная система с молекулярным насосом — для работы в глубоком вакууме;
- программирование до 15 температурных кривых по 30 сегментов — гибкая настройка режимов;
- сенсорный экран 7″ True Color — удобное управление и визуализация температурной кривой.
