Вакуумная горизонтальная печь для отжига полупроводниковых пластин и других образцов

Производитель: Henan Dming Technology Co., Ltd

Печь для отжига полупроводниковых пластин и других образцов — это вакуумная горизонтальная печь с рабочей температурой до 1150 °C для термической обработки материалов в контролируемой среде.

Основные особенности:

  • рабочая температура до 1 150 °C и предельная до 1 200 °C;
  • точность контроля температуры ±1 °C;
  • молекулярный насос и форвакуумная система для работы в глубоком вакууме;
  • сенсорный экран 7″ True Color с отображением температурной кривой;
  • сохранение до 15 температурных программ по 30 сегментов.

Доступно для предзаказа

Характеристики

Рабочая температурадо 1 150 °C
Предельная температура1 200 °C
Точность контроля температуры±1 °C
Эффективный объем камерыΦ200×200 мм
Общий объем6 л
Скорость нагревадо 20 °C/мин
Предельное давление3,0×10⁻⁴ Па
Вакуумная системамолекулярный насос + форвакуумный насос
Дисплей7″ сенсорный True Color
Питание220 В, 50 Гц
Мощность3,5 кВт

Описание

Печь для отжига полупроводниковых пластин и других образцов — это вакуумная горизонтальная печь для термической обработки материалов в контролируемой атмосфере и при точном управлении температурой. Модель предназначена для процессов отжига в производстве полупроводников, а также для работы с различными образцами, где важно снизить внутренние дефекты материала, улучшить электрические свойства и обеспечить стабильность термического цикла. Печь оснащена вакуумной системой с молекулярным насосом, сенсорным экраном 7″ True Color, программируемым нагревом и возможностью сохранять до 15 температурных кривых по 30 сегментов каждая. Рабочая температура достигает 1 150 °C, предельная — 1 200 °C. За счет точности контроля температуры ±1 °C модель подходит для задач, где критичны воспроизводимость и стабильность процесса.

Сфера применения: отжиг полупроводниковых пластин; термическая обработка образцов в производстве полупроводников; лабораторные и опытно-технологические работы; исследования материалов, требующие точного температурного контроля; процессы в вакууме и контролируемой газовой среде; работа с кварцевыми трубами и пластинами.

Ключевые преимущества модели:

  • рабочая температура до 1150 °C — подходит для высокотемпературного отжига;
  • точность контроля температуры ±1 °C — стабильность и воспроизводимость процесса;
  • вакуумная система с молекулярным насосом — для работы в глубоком вакууме;
  • программирование до 15 температурных кривых по 30 сегментов — гибкая настройка режимов;
  • сенсорный экран 7″ True Color — удобное управление и визуализация температурной кривой.

Характеристики

Рабочая температурадо 1 150 °C
Предельная температура1 200 °C
Точность контроля температуры±1 °C
Эффективный объем камерыΦ200×200 мм
Общий объем6 л
Скорость нагревадо 20 °C/мин
Предельное давление3,0×10⁻⁴ Па
Вакуумная системамолекулярный насос + форвакуумный насос
Дисплей7″ сенсорный True Color
Питание220 В, 50 Гц
Мощность3,5 кВт

Описание

Печь для отжига полупроводниковых пластин и других образцов — это вакуумная горизонтальная печь для термической обработки материалов в контролируемой атмосфере и при точном управлении температурой. Модель предназначена для процессов отжига в производстве полупроводников, а также для работы с различными образцами, где важно снизить внутренние дефекты материала, улучшить электрические свойства и обеспечить стабильность термического цикла. Печь оснащена вакуумной системой с молекулярным насосом, сенсорным экраном 7″ True Color, программируемым нагревом и возможностью сохранять до 15 температурных кривых по 30 сегментов каждая. Рабочая температура достигает 1 150 °C, предельная — 1 200 °C. За счет точности контроля температуры ±1 °C модель подходит для задач, где критичны воспроизводимость и стабильность процесса.

Сфера применения: отжиг полупроводниковых пластин; термическая обработка образцов в производстве полупроводников; лабораторные и опытно-технологические работы; исследования материалов, требующие точного температурного контроля; процессы в вакууме и контролируемой газовой среде; работа с кварцевыми трубами и пластинами.

Ключевые преимущества модели:

  • рабочая температура до 1150 °C — подходит для высокотемпературного отжига;
  • точность контроля температуры ±1 °C — стабильность и воспроизводимость процесса;
  • вакуумная система с молекулярным насосом — для работы в глубоком вакууме;
  • программирование до 15 температурных кривых по 30 сегментов — гибкая настройка режимов;
  • сенсорный экран 7″ True Color — удобное управление и визуализация температурной кривой.